Ikuspegi profesionaletik, txip baten ekoizpen-prozesua oso zaila eta neketsua da.Hala ere, IC-ren industria-kate osotik, batez ere lau zatitan banatzen da: IC diseinua → IC fabrikazioa → ontziratzea → probak.
Txipak ekoizteko prozesua:
1. Txip diseinua
Txipa bolumen txikia baina oso zehaztasun handiko produktua da.Txipa egiteko, diseinua da lehen zatia.Diseinuak EDA tresnaren eta IP nukleo batzuen laguntzarekin prozesatzeko beharrezkoa den txiparen diseinuaren laguntza behar du.
Txipak ekoizteko prozesua:
1. Txip diseinua
Txipa bolumen txikia baina oso zehaztasun handiko produktua da.Txipa egiteko, diseinua da lehen zatia.Diseinuak EDA tresnaren eta IP nukleo batzuen laguntzarekin prozesatzeko beharrezkoa den txiparen diseinuaren laguntza behar du.
3. Silizioa -altxatzea
Silizioa banandu ondoren, gainerako materialak bertan behera uzten dira.Silizio hutsa hainbat urrats egin ondoren erdieroaleen fabrikazioaren kalitatera iritsi da.Hau silizio elektronikoa deritzona da.
4. Silizio-galdaketako lingoteak
Araztu ondoren, silizioa siliziozko lingoteetan bota behar da.Lingotean bota ondoren silizio elektronikoko kristal bakar batek 100 kg inguru pisatzen du, eta silizioaren purutasuna %99,9999ra iristen da.
5. Fitxategien tratamendua
Siliziozko lingotea bota ondoren, siliziozko lingote osoa zatitan moztu behar da, hau da, normalean oblea deitzen dugun ostia, oso mehea baita.Ondoren, ostia leundu egiten da perfektu arte, eta gainazala ispilua bezain leuna da.
Siliziozko obleen diametroa 8 hazbeteko (200 mm) eta 12 hazbeteko (300 mm) da.Zenbat eta diametro handiagoa izan, orduan eta txikiagoa izango da txip baten kostua, baina orduan eta handiagoa da prozesatzeko zailtasuna.
5. Fitxategien tratamendua
Siliziozko lingotea bota ondoren, siliziozko lingote osoa zatitan moztu behar da, hau da, normalean oblea deitzen dugun ostia, oso mehea baita.Ondoren, ostia leundu egiten da perfektu arte, eta gainazala ispilua bezain leuna da.
Siliziozko obleen diametroa 8 hazbeteko (200 mm) eta 12 hazbeteko (300 mm) da.Zenbat eta diametro handiagoa izan, orduan eta txikiagoa izango da txip baten kostua, baina orduan eta handiagoa da prozesatzeko zailtasuna.
7. Eklipsea eta ioien injekzioa
Lehenik eta behin, beharrezkoa da silizio oxidoa eta silizio nitruroa fotoresisttik kanpo agerian utzi eta kristalezko hodiaren artean isolatzeko silizio-geruza bat hauspeatu, eta, ondoren, grabaketa-teknologia erabili beheko silizioa erakusteko.Ondoren, injektatu boroa edo fosforoa silizio-egituran, gero bete kobrea beste transistore batzuekin konektatzeko eta, ondoren, beste kola-geruza bat aplikatu egitura-geruza bat egiteko.Orokorrean, txip batek hamaika geruza ditu, dentso elkarri lotuta dauden autopistak bezala.
7. Eklipsea eta ioien injekzioa
Lehenik eta behin, beharrezkoa da silizio oxidoa eta silizio nitruroa fotoresisttik kanpo agerian utzi eta kristalezko hodiaren artean isolatzeko silizio-geruza bat hauspeatu, eta, ondoren, grabaketa-teknologia erabili beheko silizioa erakusteko.Ondoren, injektatu boroa edo fosforoa silizio-egituran, gero bete kobrea beste transistore batzuekin konektatzeko eta, ondoren, beste kola-geruza bat aplikatu egitura-geruza bat egiteko.Orokorrean, txip batek hamaika geruza ditu, dentso elkarri lotuta dauden autopistak bezala.
Argitalpenaren ordua: 2023-08-08